又被韩国抢先了!韩国三星抢先拿下价值26亿元光刻机设备!

据外媒报道，三星电子副董事长李在镕已结束与 ASML 公司的会谈，并就韩国三星引进下一代高数值孔径 High-NA EUV 光刻设备达成了协议!

High-NA EUV 作为ASML 公司的下一代光刻设备，与 EUV 光刻设备相比，雕刻出的电路更为精细。有分析师认为，新一代光刻设备将决定 3 纳米以下代工市场技术竞赛谁是赢家。当然，这套设备也不会便宜，High-NA EUV 光刻设备的单价估计为 5000 亿韩元(约 25.85 亿元人民币)，是现有 EUV 光刻设备价格的两倍!

由于大型光刻设备的生产与交货期较长，因此各国企业对 High-NA EUV 光刻设备的预购竞争愈发激烈。继续，英特尔在年初也已签署合同购买 5 台下一代光刻设备，并用于生产 1.8 nm芯片。台积电也表示将在 2024 年首次将 High-NA EUV 光刻设备引入其工艺。

当然，大型光刻机不仅对于企业而言是硬实力的展现，对于国家国力同样是一种展现。有韩国业内人士表示：如果三星采购 10 台 High-NA EUV 光刻设备，将花费超过 5 万亿韩元(约 258.5 亿元人民币)，因此有必要扩大政府支持，以增强韩国的国家工业竞争力!而我国似乎还没有企业准备采购High-NA EUV 光刻设备，不知道国内谁会是第一个吃螃蟹的人?