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在上个世纪 60 年代初，中科院立项开始研究光刻机了，在 1965 年成功推出了 65 型接触式光刻机，这个光刻机在当时可谓国际领先，后来 1972 年武汉无线电元件三厂编写了《光刻掩模的制造》。中国科学报：从1960年代的接触式光刻机、接近式光刻机，到1970年代的投影式光刻机，1980年代的步进式光刻机，再到后来的步进式扫描光刻机、浸入式光刻机，到现在的EUV光刻机，设备性能提升的背后伴随的是光学、化学、材料等基础科学的发展。　　我国光刻机技术在1960、1970年代基本与世界先进水平保持一致。