据悉中微半导体设备(上海)股份有限公司制造的5nm刻蚀机已完成量产准备，下半年就将交付给台积电投入使用，这是国产芯片制造产业链的又一个重大突破。

由于众所周知的原因，当下芯片制造方面对光刻机的关注度最高，但是由于种种原因，中国在获取先进光刻机方面面临困难，中国的芯片制造产业链并未因此而气馁，反而通过它们的共同努力，在现有基础上进行点突破。

刻蚀机正是中国在芯片制造产业链中进展最快的环节，其他环节如今才刚进展到14nm，光刻机更是还在攻坚28nm，而刻蚀机已完成7nm工艺，如今再进一步到5nm工艺，刻蚀机可谓是中国芯片制造产业链最成功的技术创新。

其实刻蚀机与光刻机都是芯片制造中最重要的两大环节之一，在芯片制造当中，光刻机将芯片线路刻画出来，刻蚀机则将光刻机刻画的线路图以物理或化学方法去掉硅片的多余部分，从而将晶片的线路凸显出来。

据业界人士指出芯片制造中的光刻机成本占近三成，而刻蚀机的成本占20%-27%左右，可以说刻蚀机是仅次于光刻机的重要芯片制造设备，由此可见中国取得刻蚀机的突破已是芯片制造的巨大进步。